报告题目：高性能光学薄膜制作技术

报告人：王占山，教授，同济大学物理科学与工程学院

报告时间：2021年4月20日，14:00

报告地点：致远楼213

报告摘要：光学薄膜有着极其广泛和重要的应用，使许多应用成为可能。报告首先介绍光学薄膜的重要性，其次简介光学薄膜的设计、制作与检测方法，重点阐明提高强激光薄膜、低损耗薄膜和高性能光学薄膜滤光片等三种重要薄膜元件的制作技术。采用人工局域强点解决了激光薄膜器件损伤定量研究的难题，发现了纳米非晶材料具有强的环境适应性，提出了集基板加工、基板超声波清洗、基板离子束清洗、电子束蒸发镀膜和缺陷激光预处理于一体的定量化全流程制作方法与技术，显著提升了强激光薄膜器件的制作水平。揭示了薄膜中散射、吸收和透射等光学损耗和机械损耗的物理机制，开发了薄膜损耗控制技术，制作了光学损耗<10ppm和机械损耗<2*10E-4的低损耗薄膜。同时，通过薄膜误差分析、优化监控方式实现了高陡度滤光片、多通道窄带负滤光片等高性能光学薄膜的研制。

报告人简介：王占山，现任同济大学物理科学与工程学院教授，先进技术研究院院长，教育部重点实验室主任。国家杰出青年基金获得者，国家基金委创新群体学术带头人。工作紧密结合国家重大战略需求，开展了高性能薄膜、精密成像、X射线光学与技术研究。在高性能光学薄膜研究中，解决了高损伤阈值激光薄膜研制过程中出现的各种问题，研制的光学薄膜已成功用于我国重大设施。在高性能元件研制基础上，完成了多种激光光学系统研制，已获得应用。在极紫外与软X射线偏振元件、X射线KB显微成像系统、硬X射线望远镜基础技术研究等方面也取得了重要进展。先后发表Light，Optical Letters等SCI收录论文200余篇，获授权专利70余项。先后获国家技术发明奖二等奖，中国发明专利金奖，教育部技术发明奖一等奖，上海市技术发明奖二等奖等奖项。

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